直讀光譜儀，目前常用的光源有以下兩種：一是經(jīng)典光源包括電弧及火花光源，二是等離子體光源居多。其中在冶金分析中廣泛應用的有高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預火花光源。那么光譜分析常用光源的放電方式有哪些呢？
1. 高能預火花放電最大電流可達150安和燃燒時間為150微秒，這樣使試樣中燃燒斑點內(nèi)的組織結構更加均勻，由此來消除元素之間干擾及元素之間結合等效應。
2.火花型放電對大多數(shù)元素重現(xiàn)性好。
3.電弧型放電重現(xiàn)性要比火花放電差2—3倍，但對痕量元素檢出限要低得多。
因此在選擇光源時應盡量滿足以下要求：
1.高靈敏度，隨著樣品中元素濃度微小變化，其檢出的信號有較大的變化；
2.低檢出限，能對微量及痕量成分進行檢驗；
3.良好的穩(wěn)定性，試樣能穩(wěn)定的蒸發(fā)、原子化和激發(fā)，使結果具有較高的精密度：
4.譜線強度與背景強度之比大(信噪比大)；
5. 分析速度快，預燃時間短；
6.構造簡單，容易操作，安全；
7.自吸收效應小，校準曲線的線性范圍寬。
光源激發(fā)條件的選擇是由分析對象經(jīng)過試驗來決定的。不同的試樣在不同的光源下，它的預燃時間是不一樣的，因為試樣在火花放電時的蒸發(fā)過程，它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關以外，還與試樣組成、結構狀態(tài)、夾雜物種類、大小等等密切有關。
直讀光譜儀——激發(fā)臺